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光学镀膜的工艺

光学镀膜的工艺

  • 发布时间:2020-11-23

光学镀膜的工艺

【概要描述】​光学镀膜在高真空涂布室中实现。 传统的光学镀膜涂层工艺需要提高基材温度(通常约为300°C); 而更先进的技术,例如离子辅助沉积(IAD),则可以在室温下进行。 IAD工艺不仅可以生产比常规涂层工艺具有更好物理性能的薄膜,而且还可以应用于塑料制成的基材。 电子束蒸发,IAD沉积,光控制,加热器控制,真空控制和自动过程控制的控制模块都在涂布机的前面板上。 光学镀膜两个电子枪源位于基板的两侧,被环

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光学镀膜在高真空涂布室中实现。 传统的光学镀膜涂层工艺需要提高基材温度(通常约为300°C); 而更先进的技术,例如离子辅助沉积(IAD),则可以在室温下进行。  IAD工艺不仅可以生产比常规涂层工艺具有更好物理性能的薄膜,而且还可以应用于塑料制成的基材。


光学镀膜


电子束蒸发,IAD沉积,光控制,加热器控制,真空控制和自动过程控制的控制模块都在涂布机的前面板上。 光学镀膜两个电子枪源位于基板的两侧,被环形盖包围并被挡板覆盖。 离子源在中间,而光控窗在离子源的前面。



光学镀膜


光学镀膜使用行星系统是确保蒸发材料均匀分布在固定装置区域的方法。 固定装置绕公共轴旋转,同时绕其自身轴旋转。 光学镀膜灯光控制和晶体控制位于行星驱动机构的中间,而驱动轴则屏蔽了晶体控制。 背面的大开口导致额外的高真空泵。 基板加热系统由4个石英灯组成,在真空室的每一侧有两个。



光学镀膜


柱面镜加工厂家柱面镜厂家、球面镜厂家告诉你,光学镀膜沉积的传统方法是热蒸发,或使用电阻加热蒸发源或电子束蒸发源。 光学镀膜的特性主要取决于沉积原子的能量。 离子源将离子束从离子枪引导到基板表面和生长的光学镀膜,以改善传统电子束蒸发的光学镀膜特性。
柱面镜加工厂家、柱面镜厂家、球面镜厂家告诉你光学镀膜的性质,例如折射率,吸收率和激光损伤阈值,主要取决于膜的微观结构。 光学镀膜材料,残余气压和基材温度都可能影响薄膜的微观结构。 如果在基材表面上气相沉积的原子的迁移率较低,则光学镀膜将包含微孔。 当薄膜暴露于潮湿空气中时,这些孔逐渐被水蒸气填充。长春球面镜也是。

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